全自动多臂硅片清洗机

清洗对象：适用于太阳能、半导体行业的单晶、多晶硅片的清洗；

清洗介质：纯水、碱性药液；

传输方式：多臂机械手传输；

清洗工艺：液下超声上料→超声溢流清洗槽1→超声波药液清洗槽2→超声波溢流清洗槽3→超声波药液清洗槽4→超声溢流清洗槽5→超声溢流清洗槽6→慢提拉脱水→热风循环烘干→下料

设备特点：

1、超声波发生器功率强劲、效率高、运行可靠；

2、超声波发生器采用它激式电路，配置国际先进的自动扫频电路，功耗低、消除清洗驻波、使清洗更加均匀彻底；

3、超声溢流清洗槽采用后道向前道溢流的方式，有效节约水资源；

4、超声药液清洗槽配循环过滤系统，能够保持药液的洁净度；

5、超声波溢流清洗槽和超声波药液清洗槽均带抛动系统，抛动频率及上下抛动幅度均可调；

6、设低液位自动保护报警装置，低液位时自动关闭加热和超声，安全系数高；

7、设备采用多臂机械手传输，运行平稳可靠、承载力大，清洗效率高；

8、PLC触摸屏等电气控制系统具有过载保护、漏电保护、故障自动报警、联动与互锁等功能；

9、 整体采用不锈钢材料精工制造，美观大气。设备全封闭结构，避免工作环境污染，洁净环保；