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超声波硅片清洗机简介

2017-07-10 09:43:43 保定市全一电子设备有限公司 阅读

由硅棒、硅锭或硅带所切割的硅片,表面可能沾污的杂质分为以下几类:

1、油脂、松香、蜡、环氧树脂、聚乙二醇等有机物;

2、金属、金属离子及一些无机化合物;

3、灰尘及其他颗粒(硅、碳化硅)等;

针对以上硅片表面沾污的杂质可采用物理(超声波清洗)+化学(加药剂)方法将硅片清洗干净;

超声波硅片清洗机清洗硅片的工艺流程如下:

上料—酸腐—水洗—水洗—水洗—超声波清洗—超声波清洗—烘干—下料。

       硅片烘干的目的主要是防止硅片再次被污染及在硅片的表面产生印记。硅片靠单纯的自然风干远远达不到效果,一般通过热空气或热氮气使硅片表面烘干。

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